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GAMA系列6/8英寸全自動槽式清洗機滿足全部濕法工藝需求，覆蓋RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等應用，可用于典型0.35um、0.18um工藝節點，可支持90nm工藝節點，...
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12英寸立式中高溫氧化爐THEORIS X302H主要用于12英寸1000℃-1200℃高溫和超高溫氧化和退火工藝。該機臺為立式單腔爐管系統，工藝處理過程實現了高度自動化。系統主要由傳輸模塊、工藝模塊...
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12英寸槽式清洗設備Pinnacle300平臺適用于集成電路、功率半導體、襯底材料、硅基微顯示領域的清洗工藝。該機臺主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給系統、電源柜等組成。傳輸模塊將晶圓傳送到位置，可同...
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Keysight 53200 系列 350 MHz 射頻和通用頻率計數器/計時器提供了內置的數據分析和圖形顯示功能，以及現代化的 LXI-C 和 USB 連通性。
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借助 Scienlab 測試系統和測試軟件，是德科技HEV / EV / 電網仿真器和信號測試系統為根據混合動力和電動汽車測試標準開發和測試電子元件提供定制的測試環境。我們的解決方案可幫助您加速電池、...
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通過精確的任意波形生成進行真實測試 是德科技任意波形發生器（AWG）是提高保真度的來源，KEYSIGHT任意波形信號測試發生器可同時提供高分辨率和寬帶寬。這組合，加上我們靈活的外形尺寸，使您能夠創建信...
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WLCSP（WaferLevelChipScalePackaging）即晶圓級芯片...
時間：2023-09-08等離子增強化學氣相沉積PECVD的常見應用有哪些？2025-08-24
等離子增強化學氣相沉積PECVD是一種廣泛應用于半導體制造和薄膜沉積技術中的重要工藝。它通過在低溫下利用等離子體激發反應氣體，以生成所需的薄膜材料。相比傳統的熱化學氣相沉積（CVD）工藝，PECVD能夠在較低的溫度下實現較高的沉積速率，并且...分子束外延薄膜沉積系統MBE的具體工作過程分析2025-07-20
分子束外延是一種用于制造高質量單晶薄膜和量子結構的技術。MBE技術的核心在于通過在高真空環境中，將單一元素或化合物的分子束投射到襯底表面，形成薄膜。廣泛應用于半導體、光電子學、磁學以及超導材料的研究與生產中。MBE系統具有高精度控制、優秀的...激光直寫光刻機能夠實現非常精細的圖案加工2025-06-22
激光直寫光刻機是一種先進的光刻技術設備，廣泛應用于集成電路(IC)制造、微電子器件的制作及納米加工等領域。與傳統的光刻機相比，能夠通過激光直接在基底上寫入圖案，具有更高的分辨率和靈活性，尤其適用于小批量、高精度的生產需求。激光直寫光刻機的基...脈沖激光沉積鍍膜機PLD常見的應用有哪些？2025-05-25
脈沖激光沉積鍍膜機PLD是一種廣泛應用于薄膜制備的技術。它利用高能脈沖激光照射到靶材表面，將靶材蒸發或激發成等離子體，進而沉積到基底表面，形成薄膜。PLD技術因其高精度、高質量的薄膜制備能力，廣泛應用于材料科學、光電器件、薄膜太陽能電池、傳...深圳市矢量科學儀器有限公司
深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。公司目前已授實用新型權利29項，軟件著作權14項，是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。
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